Pelapisan TiO2 di atas FTO dengan Teknik Slip Casting dan Spin Coating untuk Aplikasi DSSC (Halaman 66 s.d. 69)

Deni Yulika; Kusumandari -; Risa Suryana

doi:10.22146/jfi.24393

Pelapisan TiO2 di atas FTO dengan Teknik Slip Casting dan Spin Coating untuk Aplikasi DSSC (Halaman 66 s.d. 69)

https://doi.org/10.22146/jfi.24393

Deni Yulika^(1*), Kusumandari -⁽²⁾, Risa Suryana⁽³⁾

(1) Jurusan Fisika, Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, Universitas Sebelas Maret Jalan Ir. Sutami No. 36A Kentingan Surakarta
(2) Jurusan Fisika, Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, Universitas Sebelas Maret Jalan Ir. Sutami No. 36A Kentingan Surakarta
(3) Jurusan Fisika, Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, Universitas Sebelas Maret Jalan Ir. Sutami No. 36A Kentingan Surakarta
(*) Corresponding Author

Abstract

Pelapisan TiO₂di atas substrat FTO telah dibuat dengan teknik slip casting dan spin coating untuk aplikasi pada sel surya struktur DSSC. Dye antosianin sebagai fotosensitizer, TiO₂ fase anatase sebagai elektroda kerja, lapisan karbon sebagai elektroda lawan, dan elektrolit Iˉ/I₃ˉ digunakan sebagai bahan penyusun DSSC. Analisa kurva karakteristik I-V menghasilkan efisiensi sebesar 0,9 × 10^-2% dengan teknik slip casting dan 1,8 × 10^-2 % dengan teknik spin coating. Pelapisan TiO₂ teknik spin coating dapat meningkatkan kinerja DSSC dua kali lebih besar daripada teknik slip casting. Hal ini disebabkan teknik spin coating memiliki homogenitas lapisan TiO₂ yang terkalsinasi dengan baik pada substrat sehingga mampu menyerap dye dengan optimal.